塑料成型工藝中描述的拋（pāo）光與（yǔ）其他行業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光（guāng）應稱為（wéi）鏡麵拋（pāo）光（guāng）。它不僅對拋光

本身有很高（gāo）的要求，而且對表麵平整度、的平滑度和幾何精度也有很高的標（biāo）準。表麵拋光（guāng）通常僅需要（yào）光澤表（biǎo）麵。鏡像處理標準

分為四個（gè）級別。

　　對於電解拋（pāo）光、流體拋光的過程中，它是難以準確地控製各（gè）部（bù）分（fèn）的幾何精度，由於化學拋光（guāng）所述超聲（shēng）波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是必需的，精密模具主要是基（jī）於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主要使用砂（shā）紙實驗室（shì）和煤油協會。

　　2、精密拋光（guāng）主要製作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開（kāi）頭發的痕跡，拋（pāo）光布為9um的金剛石研磨（mó）膏你可（kě）以使（shǐ）用方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和（hé）金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米（mǐ）或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕對清潔的空間，用於（yú）拋光模具。灰塵、煙霧（wù），頭皮屑和唾液可能具有高精度拋光表麵，可在工作數小時後獲得。

　　3、為（wéi）了獲得機械拋光的基本程序，高質量的拋光效果，最重要（yào）的是要有高質量（liàng）的拋光工具和砂紙和研磨膏等配件。最重要的是（shì）一個（gè）複雜（zá）的工（gōng）作環境，需要一個潔淨室（shì）。拋光程序的選擇（zé）取決於先（xiān）前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程如下（xià）。粗（cū）拋、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在（zài）35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超（chāo）聲波粉碎機（jī）旋轉。常見的方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去（qù）除（chú）白色火花層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和（hé）煤油條作為潤滑（huá）劑或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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